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PRODUCT
Sola
Texturing
PSG
Texturing
PSG
KOH, HF 등의 Chemical을 이용하여 Texturing을 진행 후 DI.W Rinse세정, 건조하여 취출하는 장비
Wet Cleaner is removing about particle on the bath & textures the wafer surface
HF, DI.W등을 이용하여 산화막을 제거 후 Rinse 세정, 건조 하여 취출하는 장비
Wet Cleaner is remove the oxide film and particles on the surface of the wafer in the bath