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PRODUCT
Sola
KOH、HFなどのChemicalを利用してTexturingを実施後、DI.W Rinse洗浄、乾燥して抽出する装備
Wet Cleaner is removing about particle on the bath & textures the wafer surface
HF、DI.Wなどを利用して酸化膜を除去後Rinse洗浄、乾燥して抽出する装備
Wet Cleaner is remove the oxide film and particles on the surface of the wafer in the bath